Глиняна детокс-маска Blemish Relief Mask створена для шкіри, схильної до появи недосконалостей, висипань або точкових локальних запалень, утворення післязапальної пігментації та плям. Може використовуватися кілька разів на тиждень, щоб м'яко посилити існуючий режим боротьби з акне, або як нічний точковий засіб для живлення шкіри і заспокоєння спалахів вугрів. Саліцилова кислота 2%, бентонітова глина та фермент Lactobacillus м'яко відлущують, очищають пори, видаляють забруднення, поглинають надлишки себуму та знищують бактерії, які спричиняють появу запалень. У поєднанні з екстрактом іван-чаю, який швидко заспокоює і зменшує почервоніння, ця освітлююча маска робить шкіру більш здоровою, зволоженою та сяючою.
Переваги:
- Створена для ефективного догляду за проблемною шкірою та боротьби з висипаннями.
- Живить і зволожує подразнену, запалену шкіру та заспокоює спалахи акне.
- Миттєво виводить токсини.
- Делікатно та якісно абсорбує надлишок себуму.
- Запобігає появі жирного блиску і ретельно очищає від забруднень.
- М'яко відлущує та очищає пори.
- Знищує бактерії, які стають причиною появи акне.
Нанесіть рясно засіб на чисту суху шкіру. Масажуйте до тих пір, поки формула не розподілиться рівномірно по обличчю та шиї, та не почне висихати. Залишіть на 10-15 хвилин. Змийте теплою водою.
Salicylic Acid 2.0%, Water/Aqua/Eau, Glycerin, PEG-40 Hydrogenated Castor Oil, Bentonite, Coco-Caprylate, Magnesium Aluminum Silicate, Titanium Dioxide, Butylene Glycol, Methyl Gluceth-20 Benzoate, Glyceryl Stearate, Lactobacillus Ferment, Sodium Metabisulfite, Tocopherol, Sodium Hydroxide, 1,2-Hexanediol, Caprylyl Glycol, Polyacrylamide, Epilobium Angustifolium Flower/Leaf/Stem Extract, C13-14 Isoparaffin, Succinic Acid, Xanthan Gum, Lactic Acid, Allantoin, Laureth-7, Disodium EDTA, Phenoxyethanol.