Глиняная детокс-маска Blemish Relief Mask создана для кожи, склонной к появлению несовершенств, высыпаний или точечных локальных воспалений, образованию послевоспалительной пигментации и пятен. Может использоваться несколько раз в неделю, чтобы мягко усилить существующий режим борьбы с акне, или в качестве ночного точечного средства для питания кожи и успокоения угрей вспышек. Салициловая кислота 2%, бентонитовая глина и фермент Lactobacillus мягко отшелушивают, очищают поры, удаляют загрязнения, поглощают излишки себума и уничтожают бактерии, вызывающие появление воспалений. В сочетании с экстрактом иван-чая, который быстро успокаивает и уменьшает красноту, эта осветительная маска делает кожу более здоровой, увлажненной и сияющей.
Достоинства:
- Создана для эффективного ухода за проблемной кожей и борьбы с высыпаниями.
- Питает и увлажняет раздраженную, воспаленную кожу и успокаивает вспышки акне.
- Мгновенно выводит токсины.
- Деликатно и качественно абсорбирует избыток себума.
- Предотвращает появление жирного блеска и тщательно очищает от загрязнений.
- Мягко отшелушивает и очищает поры.
- Уничтожает бактерии, которые становятся причиной появления акне.
Обильно нанесите средство на чистую сухую кожу. Массируйте до тех пор, пока формула не распределится равномерно по лицу и шее, и не начнет высыхать. Оставьте на 10–15 минут. Смойте теплой водой.
Salicylic Acid 2.0%, Water/Aqua/Eau, Glycerin, PEG-40 Hydrogenated Castor Oil, Bentonite, Coco-Caprylate, Magnesium Aluminum Silicate, Titanium Dioxide, Butylene Glycol, Methyl Gluceth-20 Benzoate, Glyceryl Stearate, Lactobacillus Ferment, Sodium Metabisulfite, Tocopherol, Sodium Hydroxide, 1,2-Hexanediol, Caprylyl Glycol, Polyacrylamide, Epilobium Angustifolium Flower/Leaf/Stem Extract, C13-14 Isoparaffin, Succinic Acid, Xanthan Gum, Lactic Acid, Allantoin, Laureth-7, Disodium EDTA, Phenoxyethanol.